Разработка устройств для напыления покрытий
Разработка и производство магнетронных распылительных систем для нанесения функциональных покрытий в вакууме.
ООО «Вакуум-Покрытие» — предприятие, специализирующееся на разработке магнетронных распылительных систем (МРС), предназначенных для напыления покрытий в вакууме. Компания разрабатывает напылительные устройства для получения покрытий, применяющихся в широком спектре отраслей.
При магнетронном распылении в вакуумную камеру вводится рабочий газ, обычно аргон, и между мишенью и подложкой создаётся электрическое поле. Под действием электрического поля электроны ускоряются, а магнитное поле удерживает их вблизи поверхности мишени, увеличивая длину их траектории и вероятность ионизации газа.
Образовавшиеся положительные ионы ускоряются к отрицательно заряженной мишени и бомбардируют её поверхность. При столкновениях ионы передают энергию атомам материала мишени, в результате чего происходит распыление — выбивание атомов в газовую фазу. Распылённые частицы перемещаются к подложке и осаждаются на её поверхности, формируя тонкую плёнку.
Часть силовых линий магнитного поля выходит за пределы области непосредственно над мишенью. В результате чего, часть элеткронов уходит из зоны разряда к периферии камеры, уменьшая плазменной воздействие на обрабатываемое изделие.
Магнитное поле преимущественно замыкается вблизи поверхности мишени. Такая конфигурация обеспечивает эффективное удержание электронов в приповерхностной области и формирование плотной плазмы над мишенью.
Избыточное магнитное поле бокового магнита выходит за пределы области мишени, обеспечивая более интенсивное распространение плазмы в пространстве между мишенью и подложкой. Такая конфигурация позволяет усилить взаимодействие плазмы с поверхностью обрабатываемого изделия.
Магнетронная распылительная система — устройство для создания и поддержания плазменного разряда в процессе магнетронного распыления. Магнитное поле удерживает электроны вблизи поверхности катода, повышая эффективность ионизации рабочего газа и интенсивность распыления материала.
| Характеристика | Значение |
|---|---|
| Рабочее давление | 0,05-0.1 Па |
| Рабочий газ | Аргон (Ar), криптон (Kr), ксенон (Xe) Для реактивных процессов: кислород (O₂), азот (N₂) и др. |
| Тип магнитной системы | Сбалансированная/несбалансированная |
| Материал мишени | Металлы: Al, Ti, Cu, Cr, Ni, Au, Ag, Pt, W, Mo, Ta, Nb, Si, C, Zn, Sn, In, Fe, Co, V, Zr, Hf и др. Композитные материалы: Al2O3, SiO, SiO2, SiC, ZrO2, ITO (In2O3/SnO2), Ta2O5и др. |
| Размеры мишени | Ø90 (возможны другие размеры) |
| Мощность разряда | 0,4 - 2,25 кВт (32 Вт/см2) |
| Рабочее напряжение | 400 - 900 В |
| Рабочий ток | 0.1 - 2,5 А |
| Коэффициент использования материала | 30 - 40 % |
Проект создан при поддержке Федерального государственного бюджетного учреждения «Фонд содействия развитию малых форм предприятий в научно-технической сфере» в рамках программы «Студенческий стартап» федерального проекта «Платформа университетского технологического предпринимательства».
